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    RTP快速退火爐適用于下列工作條件

    更新更新時間:2020-01-15點擊次數:2955
       RTP快速退火爐一般都是以碘鎢燈管為發熱元件,升溫速度極快,采用S型熱電偶測溫并采用的模糊PID控制,具有很高的控溫精度<±5℃>,該爐具有真空裝置,可在多種氣氛下工作。大大提高了其使用范圍。標準配件需:高溫手套1付,熱電偶1根,石英管1根,真空法蘭1套。可選配件:氧化鋁坩堝,石英坩堝,真空泵。
     
      該設備可選擇單設定點或30段可編程控制器。節能型的陶瓷纖維材料和雙層結構,可將外表溫度降到常溫。均溫區長,操作簡便,密封可靠,綜合性能指標較高,處于國內*水平。爐管可選擇配置耐熱鋼、石英玻璃、陶瓷管等材料。
     
      產品用途:
      主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室,如:薄膜沉積,可在真空、不同氣氛、空氣不同環境下,對樣品進行快速熱處理,不同材料快速退火、硅化、擴散、晶化和致密化等。

      結構與配置:
      該爐型具由我公司專業化設計制造的保溫層,采用業內高標準的高純陶瓷纖維高壓模塊,組成全纖維保溫爐襯。RTP快速退火爐的發熱元件從材質到設計經過嚴格質量控制,能夠極大提高加熱效率,快速完成退火熱處理工藝。在節能節電方面的優勢更加突出,微電腦程序控制整個退火工藝過程,實時自動化計算退火工藝所需的功率,同比節能節電30-50%。
     
      此爐適用于下列工作條件:
      1、環境溫度在-10~75℃之間。
      2、周圍環境的相對濕度不超過85%。
      3、爐子周圍沒有導電塵埃,爆炸性氣體及嚴重破壞金屬和絕緣材料的腐蝕性氣體。
      4、沒有明顯的傾斜﹑振動和顛簸。
     
      產品特點:
      1、可測大尺寸樣品:可測單晶片樣品的Zui大尺寸為4英寸(100mm)。
      2、快速控溫與高真空:Zui高升溫速率可達100℃/s,真空度Zui高可達到10Pa。
      3、程序設定與氣路擴展:Zui多可創建和存儲32個程序、8個PID設定,實現不同溫度段的精確測試。Zui多可擴展至4條工藝氣路(MFC),應用不同氣氛環境(真空、氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣體等)。
      4、全自動智能控制:采用全自動智能控制,包括溫度、時間、氣體流量、真空、氣氛、冷卻水等均可實現自動控制。
      5、超高安全系數:采用爐門安全溫度開啟保護、溫控器開啟權限保護以及設備急停安全保護三重安全措施,全面保障儀器使用安全。

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